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Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1

簡要描述:Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1
BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時間:2021-03-24
  • 訪  問  量:949

詳細介紹

品牌Eksma價格區(qū)間面議
組件類別光學元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1


Eksma 薄膜偏振片(56度角)-1

分離特定波長的s偏振和p偏振分量。由于其高損傷閾值,薄膜偏振片在高能激光器的應(yīng)用中取代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

產(chǎn)品介紹

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2,因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波,也可以用作腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標準-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

產(chǎn)品型號

代碼

波長

材料

偏振效率

消光比

尺寸

 

420-1110E

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1240E

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1270

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1370

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1510E

266 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1242HE

343 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1242HT

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1112E

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1242E

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1512E

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1272

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1372

343 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1122E

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1252HE

355 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1252HT

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1252E

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1282

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1382

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1502E

355 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1123E

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1253E

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1283

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1383

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-1503E

400 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0114E

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1114E

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1244HE

515 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1244HT

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0244E

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1244E

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0274

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1274

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1374

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-0514E

515 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1514E

515 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0124E

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1124E

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1484HE

532 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

20 x 15 x 6 mm

 

420-1254HE

532 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1254UHT

532 nm

UV FS

Ts<0.2%, Rp<0.2%

> 500:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1254HT

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/99.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0254E

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1254E

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0284

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1284

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1584HE

532 nm

UV FS

Tp>98%, Ts<0.1%

> 1000:1

30 x 20 x 6 mm

 

420-1384

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-0504E

532 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1504E

532 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0125E

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-0255E

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0285

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-0505E

633 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0127E

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-0257E

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0287

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-0507E

775 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0136E

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1136E

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-0266E

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-1266E

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 25.4 x 3 mm

 

420-0296

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1296

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

28.6 x 14.3 x 3 mm

 

420-1396

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

35 x 20 x 3 mm

 

420-0526E

780-820 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-1526E

780-820 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 50.8 x 6 mm

 

420-0126E

800 nm

BK7

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

420-1126E

800 nm

UV FS

Rs/Tp:>99.5/95.0 %

> 200:1

ø 12.7 x 3 mm

 

 

材料

BK7, UV FS

表面質(zhì)量

20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

透射波前畸變

λ/10 @ 633 nm

平行性

< 30 arcsec

通光孔徑

> 90%

入射角

56°±2°

直徑公差

+0.0 -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

激光損傷閾值

10 J/cm2, 10 nsec pulse at 1064 nm typical, 50 Hz

消光比Tp / Ts

>200:1 (for standard, HT and UHT series)

>1000:1 (for HE series)

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2,因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波,也可以用作腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標準-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學,工業(yè),醫(yī)學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質(zhì)量控制評估以及對新技術(shù)的承諾,我們不斷改進并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴展制造能力。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

BK7和UV FS薄膜激光偏振片(TFP)的選擇范圍廣泛,可快速交付。薄膜偏振片具有較高的激光損傷閾值,專為要求較苛刻的應(yīng)用而設(shè)計,工作在1040-1070 nm范圍的Nd主激光器和飛秒的Ti:Sapphire或Yb:KGW / KYW激光器。

薄膜偏振片將特定波長或波長范圍的S偏振和P偏振分量分開。 由于10 ns薄膜偏振片的高損傷閾值在1064 nm處達到10 J / cm2,因此在高能激光器的應(yīng)用中替代了格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可以用于Yb:KGW / KYW或Ti:藍寶石激光器的基本波長及其諧波,也可以用作腔內(nèi)Q開關(guān)釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。

We offer four types of thin-film polarizers:

我們提供四種類型的薄膜偏振片:

Ø標準-Rs / Tp:> 99.5 / 95.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高透射率(HT)-Rs / Tp:> 99.5 / 99.0%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø很高透射率(UHT)-Ts <0.2%,Rp <0.2%,消光比Tp / Ts> 200:1

Ø高消光比(HE)-Tp> 98%,Ts <0.1%,消光比Tp / Ts> 1000:1

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